ELECTRON-BEAM TECHNOLOGY (ELECTRODYNAMICS)
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BTELECTRON BEAMS + ELECTRON OPTICS (ELECTRODYNAMICS)
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UDC537.533.08
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Descriptor GERANWENDUNGEN VON ELEKTRONENSTRAHLEN (ELEKTRODYNAMIK)
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Descriptor ENGELECTRON-BEAM TECHNOLOGY (ELECTRODYNAMICS)
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Descriptor FREAPPLICATIONS DE RAYONS ÉLECTRONIQUES (ÉLECTRODYNAMIQUE)
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Variant GERELEKTRONENSTRAHL-TECHNOLOGIE (ELEKTRODYNAMIK)
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Variant GERELEKTRONENSTRAHLEN/ANWENDUNGEN VON ELEKTRONENSTRAHLEN (ELEKTRODYNAMIK)
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Variant FREFAISCEAUX ÉLECTRONIQUES/APPLICATIONS DE FAISCEAUX ÉLECTRONIQUES (ÉLECTRODYNAMIQUE)
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Variant FREÉLECTRONIQUES/APPLICATIONS DE RAYONS ÉLECTRONIQUES (ÉLECTRODYNAMIQUE)
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Variant FREÉLECTRONIQUES/APPLICATIONS DE FAISCEAUX ÉLECTRONIQUES (ÉLECTRODYNAMIQUE)
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NTELECTRON MICROPROBES, MICROANALYSIS (ELECTRODYNAMICS)
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NTELECTRON STORAGE (ELECTRODYNAMICS)
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NTELECTRON-BEAM SPUTTERING (ELECTRODYNAMICS)
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RTELECTRON MICROSCOPY (PRINCIPLE AND METHODS)
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RTELECTRON-BEAM MACHINING, MACHINING USING PARTICLE BEAMS (MACHINING)
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RTCRYSTAL STRUCTURE ANALYSIS BY ELECTRON BEAMS