ION SPUTTERING (ELECTRODYNAMICS)
  • BT
    ION BEAM TECHNOLOGY (ELECTRODYNAMICS)
  • UDC
    537.534.08*2
  • Descriptor GER
    IONENSPUTTERING (ELEKTRODYNAMIK)
  • Descriptor ENG
    ION SPUTTERING (ELECTRODYNAMICS)
  • Descriptor FRE
    PULVÉRISATION IONIQUE (ÉLECTRODYNAMIQUE)
  • Variant GER
    IONENSTRAHLEN/IONENSPUTTERING (ELEKTRODYNAMIK)
  • Variant GER
    SPUTTERING MIT IONENSTRAHLEN (ELEKTRODYNAMIK)
  • Variant GER
    ZERSTÄUBUNG/IONENZERSTÄUBUNG (ELEKTRODYNAMIK)
  • Variant GER
    IONENZERSTÄUBUNG (ELEKTRODYNAMIK)
  • Variant ENG
    SPUTTERING WITH ION BEAMS (ELECTRODYNAMICS)
  • Variant ENG
    ION BEAMS/ION SPUTTERING (ELECTRODYNAMICS)
  • Variant FRE
    FAISCEAUX IONIQUES/PULVÉRISATION CATHODIQUE, SPUTTERING (ÉLECTRODYNAMIQUE)
  • Variant FRE
    SPUTTERING/PULVÉRISATION CATHODIQUE, FAISCEAUX IONIQUES (ÉLECTRODYNAMIQUE)
  • Variant FRE
    IONIQUE/PULVÉRISATION IONIQUE (ÉLECTRODYNAMIQUE)
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